Popis
Pracoviště je vybaveno následujícími zařízeními:
- laminární box Telstar BV-100 - odtah 1100 m3/h, HEPA filtr H14, UV svícení
- spin coater SPIN 150 – stolní jednosubstrátový spin coater pro čištění, sušení a nanášení rezistu na substráty o velikosti až 6“, rychlost 1 - 10 000 rpm, paměť pro 50 programů s až 99 kroky pro každý program
- UV osvitová jednotka MEGA AZ 210 - s vakuem pro osvit fotocitlivých materiálů, pracovní plocha je 260 x 355 mm, výkon zářivek je 8 x 15W - 4-5 mW/cm2
- topná deska STUART SD 160 - digitální nastavení teploty na LCD displeji s mikroprocesorovou regulací teploty, topný výkon 700W, max. teplota 325°C, nastavení po 1°C
Využití
- přenos motivu z masky do fotocitlivého rezistu s vysokým rozlišením (až 30 um z fóliové předlohy, až 1 μm ze 5“ skleněné masky
Používané fotorezisty
| Microposit S1813, Shipley |
| AZ1518, MicroChemicals |
| AZ1505, MicroChemicals |
| PMMA 495, MicroChem |
| SU-8 2000, MicroChem |
| Negative Photoresist Kit, Sigma-Aldrich |
Laminární box
Osvitová (vytvrzovací) jednotka