Logo LabSensNano
Skip Navigation Links
Intor LabSensNano

Pracoviště fotolitografie


Popis

Pracoviště je vybaveno následujícími zařízeními:

  • laminární box Telstar BV-100 - odtah 1100 m3/h, HEPA filtr H14, UV svícení
  • spin coater SPIN 150 – stolní jednosubstrátový spin coater pro čištění, sušení a nanášení rezistu na substráty o velikosti až 6“, rychlost 1 - 10 000 rpm, paměť pro 50 programů s až 99 kroky pro každý program
  • UV osvitová jednotka MEGA AZ 210 - s vakuem pro osvit fotocitlivých materiálů, pracovní plocha je 260 x 355 mm, výkon zářivek je 8 x 15W - 4-5 mW/cm2
  • topná deska STUART SD 160 - digitální nastavení teploty na LCD displeji s mikroprocesorovou regulací teploty, topný výkon 700W, max. teplota 325°C, nastavení po 1°C

Využití

  • přenos motivu z masky do fotocitlivého rezistu s vysokým rozlišením (až 30 um z fóliové předlohy, až 1 μm ze 5“ skleněné masky

Používané fotorezisty

  • Pozitivní fotorezist:  
Microposit S1813, Shipley
 AZ1518, MicroChemicals
 AZ1505, MicroChemicals
 PMMA 495, MicroChem
  • Negativní fotorezist:    
SU-8 2000, MicroChem
 Negative Photoresist Kit, Sigma-Aldrich

 

Laminární box

Osvitová (vytvrzovací) jednotka

 

Zpět...

Logo VUT